ASML在首个高NA EUV工具上达到“第一盏灯”里程碑

　　路透阿姆斯特丹8月12日电- - -荷兰半导体设备制造商ASML周三证实，其大型新型高NA EUV光刻系统已经“初见曙光”，这一里程碑式的进展意味着该系统虽未达到最佳性能，但已开始运行。

　　英特尔技术开发主管安·凯莱赫(Ann Kelleher)周二在圣何塞举行的SPIE光刻大会上的一次演讲中首次提到了这一进展。

　　阿斯麦证实凯莱赫的话是准确的。

　　光刻系统使用聚焦的光束来帮助制造计算机芯片的微小电路。ASML的高NA EUV工具大小相当于一辆双层巴士，每个成本超过3.5亿美元，预计将有助于实现新一代更小、更快的芯片。

　　现有的第一个高NA工具在荷兰维尔德霍芬的ASML实验室，第二个正在俄勒冈州希尔斯伯勒附近的英特尔工厂组装。

　　包括台积电(TSMC)和三星(Samsung)在内的先进芯片制造商预计将在未来五年内采用该工具，英特尔(Intel)在上周的一次活动中表示，打算在其14A代芯片的生产中使用该工具。

　　在Kelleher的演讲中，她说Veldhoven机器已经看到了“第一次在硅片上的光”，这意味着机器已经被用于硅晶片的测试，硅晶片已经用光敏化学物质处理过，这样它就可以接收电路图案了。

　　阿斯麦一位发言人表示，第一个轻型里程碑是“最近”达到的。

　　(托比·斯特林报道;编辑:Jason Neely)

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